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地埋式(shì)汙水處理設備結構的詳細(xì)介紹

作者:博宇環(huán)保 來源: 時(shí)間:2020-07-27 15:11:03 瀏覽次數:

地埋(mái)式汙(wū)水處理設備結構的詳細介紹:

1、格柵在汙水進入(rù)調節池(chí)前設置一(yī)道格柵,用以去除汙水中的軟性纏繞(rào)物、較大固(gù)顆(kē)粒雜物及飄浮物,從而保護後續(xù)工作(zuò)水泵使用壽命並降低係統處理工(gōng)作負荷。格柵井設置鋼筋砼結構,格柵采用手動框(kuàng)式。

2、調節池(集水池)汙水經格柵處理後進入調節池進行水量、水質的調節均化,保證後續生化處理係統水量、水質的均衡、穩定、又對汙水中有機物起到一定的降解功效,提高整個係統的抗衝擊性能和處(chù)理效(xiào)果(guǒ)。調節池設計為鋼(gāng)筋砼結(jié)構。

3、水解酸化池水解酸化池由池體、填料和布水係統組成。生物的厭氧發(fā)酵分為四個階段:水解階段;酸化階段;酸(suān)性衰退階段及甲烷化階段(duàn)。在水解階段,固體物(wù)質降解為溶解(jiě)性物質,大(dà)分子物質降解為小分子物質。厭氧反應池是把反應控製在第二階段完成之前,故水力停(tíng)留時間短,效率高,同時提高了汙水(shuǐ)的可生化性。

水解酸化池啟動後,汙水由布水係統進入池體,由池底向動,經細菌形成的汙(wū)泥層和填(tián)料層時,汙泥層對懸(xuán)浮物、有機物進行吸附、網捕、生物學絮凝、生物降解作用,使汙水在降解COD的同時(shí)也得以澄清(qīng)。填料層的設置為提高水解酸化池汙(wū)泥層的穩定性及微(wēi)生物(wù)量起(qǐ)到積(jī)作用,並起到了較強的截流作用,對去除水體的SS有較好的效果。
另(lìng)外,兼氧狀態下的水解酸化池內很適合反硝化菌的生長。水解酸(suān)化池利用原水中豐富的碳源,對來自生物接觸氧化池的硝化混合液進行反硝化,將水中的硝(xiāo)態氮還(hái)原為N2排出,從而達到脫氮的目的。一體化汙水處理裝置水解酸(suān)化工藝水力停留時間短,一般為3-6小時,COD去除率20-30%,同時具有很強的抗衝擊負荷能力,COD容(róng)積負荷為(wéi)1-3kgCOD/m3.d。

4、接觸氧化池生(shēng)物接觸氧化工藝主要由填料(liào)、曝氣係統、進(jìn)出水係(xì)統組成(chéng)。通過投加填料,培養產生生物膜,有效的提高(gāo)了活(huó)性汙泥的濃度。與(yǔ)傳統活性汙泥法相比,停留時間短、抗衝擊負荷能力強、處理(lǐ)效率高、汙(wū)泥產量低。接(jiē)觸氧化池分為兩級,總停留時間為3-6h,氣水比8-12:1,池中采用新(xīn)型彈性立體填料(liào),比表麵積大,微(wēi)生物易掛(guà)膜,脫膜,在同樣有機物(wù)負荷條件下,對有機物去除(chú)率高,能提高空氣中的氧在水(shuǐ)中溶解(jiě)度。

5、MBR膜池膜生物反應器(MembraneBio-Reactor,MBR)為膜分離技術與生物處理技術有(yǒu)機結(jié)合之新型態廢水處理係統。以膜組件取代傳統生物處理技術末端(duān)二沉池,在生物反應器中(zhōng)保持(chí)高活性汙泥濃度,提高生物處理有機負荷,從而減少汙水處理設施占地麵積,並通過保(bǎo)持低汙泥負荷減少剩餘(yú)汙泥量。主要利用(yòng)沉(chén)浸於好氧生物池內之膜分離設備截留槽內的活性汙泥與大分子有機物。膜生物反應器因(yīn)其有效的截留作用,可保留世代周期較長的微生物,可實現對汙水深度(dù)淨化,同時硝化菌在(zài)係統內能充(chōng)分繁殖,其硝(xiāo)化效果(guǒ)明顯(xiǎn),對深度除磷(lín)脫氮(dàn)提供可能。

6、清水池清水池主要用於儲存膜抽吸出水,便於(yú)膜反洗及中水回用。

7、汙泥池定(dìng)期監測MBR膜池內汙泥濃度,當汙(wū)泥濃度過高時,通過汙泥泵排放至汙泥池,汙泥池內敷設曝氣管,使汙泥進行好氧消化,經消化後所剩的汙泥量少,一般每年隻需用吸(xī)糞車運出2-3次即可。

8、設備間設備間內主要有電器設備、風機、抽吸泵、反洗泵、加藥設備等。設計時(shí)嚴格控製(zhì),防止曝氣時(shí)汙水倒灌。兩台(tái)風機交替使用,為汙水生物氧化及汙泥好氣(qì)消化(huà)提供足夠的空(kōng)氣。也可使用(yòng)水下曝(pù)氣機提供空氣,無噪音,並可不建泵房;兩台抽吸泵交替使用,並定期對膜係統進行加藥反洗。

9、整個地埋式汙水處理設備設備的基礎或坑池視用戶(hù)要求製作,可直接挖坑修平,裝進設備後(hòu)再將土埋(mái)上,也可先做磚牆結構成或混凝土(tǔ)結構(gòu)的整池基礎,設備就位(wèi)後再蓋(gài)上平板,同(tóng)時設備與池(chí)邊留有適當查修間隙。

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